Estudo da resistência série de fonte e dreno de
ESTUDO DA RESISTÊNCIA SÉRIE DE FONTE E DRENO DE
TRANSISTORES SOI FinFETs DE PORTA TRIPLA E COM CANAL
TENSIONADO
São Paulo
2009
TALITHA NICOLETTI
ESTUDO DA RESISTÊNCIA SÉRIE DE FONTE E DRENO DE
TRANSISTORES SOI FinFETs DE PORTA TRIPLA E COM CANAL
TENSIONADO
Dissertação apresentada à Escola
Politécnica da Universidade de São
Paulo para obtenção do título de
Mestre em Engenharia
Área de concentração: Microeletrônica
Orientador: Prof. Dr.
João Antonio Martino
São Paulo
2009
FICHA CATALOGRÁFICA
Nicoletti, Talitha
Estudo da resistência série de fonte e dreno de transistores
SOI FinFETs de porta tripla e com canal tensionado / T. Nicoletti.
-- São Paulo, 2009.
134 p.
Dissertação (Mestrado) - Escola Politécnica da Universidade de São Paulo. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos.
1. Transistores 2. Circuitos integrados MOS 3. Microeletrô nica I. Universidade de São Paulo. Escola Politécnica. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos II. t.
DEDICATÓRIA
Dedico este trabalho aos meus pais que muito amo e aos quais muito devo.
Ser um campeão incansável onde a linha de chegada é o ponto de partida para o próximo desafio.
(autor desconhecido)
AGRADECIMENTOS
Ao professor e orientador João Antonio Martino pela amizade construída, orientação cuidadosa, seu incentivo e confiança depositada.
Ao professor Salvador Pinillos Gimenez pela fraterna amizade e admiração que se iniciou na graduação e segue no caminhar desta estrada acadêmica. Às amigas veteranas do grupo, Carolina, Milene, Michele, Michelly e
Paula em quem me inspirei quando entrei neste grupo, por suas realizações acadêmicas e profissionais.
Às amigas Sara e Glória pelos bons momentos de alegria, carinho e valiosa amizade.
Ao Laboratório de Sistemas Integráveis da Escola Politécnica da
Universidade de São Paulo pela disponibilidade da infra-estrutura necessária para essa atividade de pesquisa.
Aos meus pais,