Mecanica

PVD E CVD

Max Castanha Druciak

Ricardo Holtz Macedo

Tiago Antonio Canalli

Os processos descritos a seguir são chamados de PVD e CVD. Eles consistem basicamente de processos de deposição de filmes finos, os quais melhoram as propriedades superficiais de diferentes materiais. O detalhamento, vantagens, desvantagens e as diferentes propriedades que cada um deles pode representar está descrito abaixo.

O PVD é um processo de deposição de materiais, no estado de vapor, na superfície de peças para o aumento da vida e/ou da resistência superficial dessa peça. Se traduzirmos ao pé da letra seria Deposição física a vapor, Physical Vapour Deposition. Primeiramente esse processo foi descoberto por Faraday, e esse fato aconteceu acidentalmente, quando havia estourado o filamento da lâmpada, acarretando no deposito de material do filamento no bulbo da lâmpada. O metal evapora com o calor excessivo, e assim se deposita na superfície do vidro (quando uma lâmpada estoura e fica uma espécie de parte preta no vidro). As pesquisas foram evoluindo e começaram a fazer os depósitos de metais na fase de vapor em vácuo para que não houvesse contaminação, onde o material de deposição é evaporado e assim depositado na superfície desejada por condensação. Existem vários métodos de se conseguir esse revestimento, como por exemplo, a laser, a vaporização, altas tensões, pulverização caótica, etc.

O processo é uma maneira de melhoramento superficial dos metais base, e isso vem a ser pelo fato do material depositado por vapor se aderir à superfície e exercer com as suas propriedades as funções que antes o material que esta abaixo dele exercia. Primeiramente é feita a limpeza da superfície a ser tratada, tentando minimizar imperfeições e deixando adequado para que haja a aderência do revestimento. O material a ser depositado é transformado em vapor, aquecendo-o pelo método adotado, laser pulsado, arco catódico, etc, e então elevado em temperaturas abaixo das de austenitização, para que