FILMES DE ÓXIDO DE ÍNDIO DOPADO COM ESTANHO DEPOSITADOS POR MAGNETRON SPUTTERING

LARISSA RODRIGUES DAMIANI

FILMES DE ÓXIDO DE ÍNDIO DOPADO COM ESTANHO
DEPOSITADOS POR MAGNETRON SPUTTERING

Dissertação

apresentada

à

Escola

Politécnica da Universidade de São Paulo para a obtenção do título de Mestre em
Engenharia Elétrica
Área de concentração: Microeletrônica

Orientador: Prof. Livre-Docente
Ronaldo Domingues Mansano

São Paulo
2010

LARISSA RODRIGUES DAMIANI

FILMES DE ÓXIDO DE ÍNDIO DOPADO COM ESTANHO
DEPOSITADOS POR MAGNETRON SPUTTERING

Dissertação

apresentada

à

Escola

Politécnica da Universidade de São Paulo para a obtenção do título de Mestre em
Engenharia Elétrica
Área de concentração: Microeletrônica

Orientador: Prof. Livre-Docente
Ronaldo Domingues Mansano

São Paulo
2010

Este exemplar foi revisado e alterado em relação à versão original, sob responsabilidade única do autor e com a anuência de seu orientador.
São Paulo, 14 de janeiro de 2010.

Assinatura do autor ___________________________

Assinatura do orientador _______________________

FICHA CATALOGRÁFICA

Damiani, Larissa Rodrigues
Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering / L.R. Damiani. -- ed.rev. -- São Paulo,
2010.
112 p.
Dissertação (Mestrado) - Escola Politécnica da Universidade de São Paulo. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos.
1. Filmes finos 2. Processos de microeletrônica I. Universidade de São Paulo. Escola Politécnica. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos II. t.

Dedico este trabalho aos meus pais.

AGRADECIMENTOS

Agradeço, em primeiro lugar, ao meu amigo e orientador Prof. Dr. Ronaldo Domingues
Mansano por todo apoio, conhecimento, paciência e compreensão dispensados, principalmente nos momentos de maior dificuldade.
Aos grandes amigos que encontrei ao longo destes anos e que tanto me ajudaram: Marina
Sparvoli, Juliana Cardoso, Michel Veiga, Peter Polak, Luiz Rasia, Alex Nunes e Sergio
Lopera.
Ao amigo e