NANOCOMPÓSITO POLIMÉRICO BASEADO EM SÍLICA COMERCIAL PARA APLICAÇÃO EM DENTÍSTICA RESTAURADORA
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nanocompósito polimérico baseado em sílica COMERCIAL PARA APLICAÇÃO EM DENTÍSTICA RESTAURADORA.Gedalias C. Martim (IC), Wanderley de Almeida Cezar Jr., Emerson M. Girotto (PQ)*, emgirotto@uem.br.
Universidade Estadual de Maringá-UEM, Departamento de Química, Avenida Colombo, 5790, 87020-900, Maringá – PR.
Palavras-chave: Nanocompósitos, Dentística, Microdureza, Contração de Polimerização, Restauração.
Resumo:
Atualmente existem poucas empresas fabricantes de materiais usados em dentística restauradora, que desenvolvem compósitos para restaurações dentárias, porém essas ainda não dominam nenhum processo de preparação de resinas que emprega espécies nanoparticuladas. Mediante isso, este trabalho visou atuar no desenvolvimento desses materiais, utilizando como pano de fundo a nanotecnologia, com o intuito de agregar qualidade a produtos que possam ser fabricados no Brasil.
Introdução
O uso de resina para restauração dentária vem muito sendo pesquisado nos últimos anos, apresentando melhoras significativas principalmente quanto ao desempenho e à função estética. Contudo, existem vários parâmetros que devem ser avaliados antes de sua aplicação, como por exemplo, a contração de polimerização, que podem levar a formação de fendas marginais e conseqüentes infiltrações além de dor pós-operatória e cárie secundária, a microdureza que está relacionada com a resistência à abrasão no ambiente bucal e o grau de conversão que está relacionado ao grau de conversão monômeroèpolímero. O objetivo deste trabalho foi avaliar a contração de polimerização, a microdureza e o grau de conversão monomérica de resinas poliméricas carregadas com sílicas micro e nanoparticuladas comerciais.
Materiais e Métodos
As resinas foram preparadas através da mistura dos componentes, obedecendo a respectivas porcentagens: 75% de base orgânica (Bisfenol A glicidilmetacrilato) (Bis-GMA 75%), tetraetilenoglicoldimetacrilato (TEGDMA 25%), fotoiniciador canforoquinona (CQ 1%),